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MD 4C NT +AK SYNCHRO+EK 化學真空系統

簡要描述:MD 4C NT +AK SYNCHRO+EK 化學真空系統使用一個真空泵即可同時實現兩種過程控制。可與旋轉蒸發儀、真空濃縮儀和真空烘箱等配合使用。每個真空連接口配備一個手動控制閥來調節進氣口的有效流量。

  • 產品型號:
  • 廠商性質:代理商
  • 更新時間:2025-07-04
  • 訪  問  量:1178

詳細介紹

品牌Vacuubrand/德國應用領域化工

MD 4C NT +AK SYNCHRO+EK 化學真空系統


描述

該化學真空系統使用一個真空泵即可同時實現兩種過程控制。可與旋轉蒸發儀、真空濃縮儀和真空烘箱等配合使用。每個真空連接口配備一個手動控制閥來調節進氣口的有效流量。MD 4C NT泵的具有非常大的抽氣速度,足以同時應對兩個復雜的真空系統。進氣口的分離瓶(AK)為玻璃材質,外部覆保護膜,用來防止顆粒或小液滴進入泵體。出氣口的廢氣冷凝器(EK)效率高,結構緊湊,可實現近100%的溶劑回收效果,有效地循環利用溶劑同時保護環境。

性能特性

  • 化學耐腐蝕性和蒸汽耐受性

  • 在較高真空度下仍具有非常好的性能

  • 使用氣鎮仍能達到很好的極限真空

  • 可同時操作兩個獨立的真空應用,配有止回閥防止不同應用間的干擾

  • 高效的溶劑回收系統,使其成為一款環境友好的產品


MD 4C NT +AK SYNCHRO+EK 化學真空系統技術指標:

MD 4C NT +AK SYNCHRO+EK 化學真空系統

Vacuubrand MD 4C NT +AK SYNCHRO+EK化學真空系統是為實驗室嚴苛化學環境設計的高效解決方案,由MD 4C NT耐腐蝕隔膜泵、AK SYNCHRO智能中和器和EK化學捕集器組成。該系統采用全PTFE密封和陶瓷轉子結構,可處理強酸、鹵素等腐蝕性介質(符合ISO 15859標準),極限真空達12mbar。AK SYNCHRO中和器創新采用同步監測技術,實時顯示吸附劑飽和度并自動調節氣體流速;EK捕集器配備-20℃制冷單元和PFA涂層冷凝腔,實現腐蝕性蒸汽的雙重攔截。整機通過ATEX防爆認證,運行噪音<52dB(A),特別適合藥物合成、材料腐蝕試驗等精密實驗,其模塊化設計便于維護,標配VACUU·VIEW控制系統提供實時工作狀態監控。

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